研究工作將在IBM公司在東Fishkill的300mm工廠，Nanotech/意法半導(dǎo)體公司在法國Crolles的工廠以及CEA/LETI位于Grenoble的300mm設(shè)施中展開。而來自CEA/LETI的一支研究團隊則將在Albany Nanotech公司開展這項研究工作。CEA/LETI將不會加入IBM的“制造廠俱樂部”（fab club）聯(lián)盟，而只會加入IBM的“聯(lián)合開發(fā)共同體”聯(lián)盟進行技術(shù)合作。
本次合作將主要涉及三個領(lǐng)域：22nm制程用高級光刻技術(shù)；22nm制程CMOS技術(shù)以及低功耗技術(shù)；以及納米級成型工藝（nanoscale characterization）技術(shù)。
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